서울중앙지법은 삼성전자 출신 연구원이 중국 기업에 반도체 기술을 유출한 혐의로 징역 7년을 선고했다고 22일 밝혔다. 법원은 성만 공개된 피고인이 산업기술보호법을 위반했다고 판단했다. 그가 유출한 데이터는 '국가핵심기술'로 규정됐고, 다른 사람들과 공모해 비밀을 유출했다.
이 전직 연구원(56세)은 지난해 한국 검찰이 중국 메모리칩 제조사 창신메모리테크놀로지(CXMT)에 메모리칩 제조공정을 유출한 혐의로 기소한 피의자 10명 중 한 명이다. 당시 관계 당국은 이번 사건이 중국이 인공지능 컴퓨팅의 핵심 핵심 부품 중 하나인 고대역폭 메모리(HBM) 개발의 길을 닦는 데 도움이 됐다고 밝혔다. 삼성전자는 논평을 거부했고, 창신메모리는 아직 논평 요청에 응하지 않았다.
이 연구원은 삼성전자를 떠난 뒤 삼성 전 임원과 함께 창신메모리에 입사해 이 과정에서 삼성의 D램 공정 기술을 이 회사에 제공했다고 보도했다. 통신에 따르면 검찰 관계자를 인용해 피고인은 6년 동안 창신창고로부터 총 29억원 가량을 받았다. 서울중앙지방검찰청은 로이터통신과의 접촉 당시 즉각 논평을 할 수 없었다.
창신스토리지는 지난해 상하이에서 주식 106억주를 발행해 기업공개(IPO)를 통해 295억위안(약 43억3000만달러)을 조달할 계획이라고 밝힌 바 있다. 회사 측은 이번 모금 수익금을 D램 생산능력 확대와 공정수준 향상을 위한 생산라인 및 관련 기술 업그레이드에 사용할 예정이라고 밝혔다. 보고서는 또 이날 환율을 인용해 1달러가 약 6.8204위안(한화 약 1477.45원)에 해당한다고 지적했다.