미국 상무부는 ASML 고급 리소그래피 기계가 중국으로 유입될 수 있다는 우려를 표명했습니다.

로이터 통신은 하워드 루트닉 미국 상무장관이 최근 일련의 회의에서 네덜란드 노광기계 제조업체인 ASML(ASML)의 고위 임원들에게 다음과 같이 말했다고 18일 보도했다.미국은 이 회사의 최고 칩 제조 장비 중 하나가 중국으로 유입되어 미국이 주도하는 관련 수출 통제 규정을 위반했을 가능성을 우려하고 있습니다.해당 소식은 블룸버그를 통해 처음 공개됐다.

보고서에 따르면 Lutnik은 네덜란드 회사의 고위 경영진과의 회의에서 위와 같은 우려를 제기했습니다. ASML은 초미세 칩 회로를 생산하는 데 사용되는 극자외선(EUV) 리소그래피 시스템의 출력이 극히 제한적이며 ASML 엔지니어의 수명 주기 동안 지속적인 유지 관리가 필요하므로 장비 흐름을 고도로 제어할 수 있다고 강조하며 이를 반박했습니다.

보고서에 따르면 ASML의 가장 진보된 EUV 시스템은 크기가 스쿨버스와 맞먹고 무게는 약 180톤입니다. 이는 현재 고급 칩 제조 산업 체인에서 핵심적인 "stuck neck" 장비로 간주됩니다. ASML 대변인은 블룸버그에 따르면 "ASML은 EUV 리소그래피 기계를 중국에 판매한 적이 없으며 EUV 장비용으로 특별히 설계된 구성 요소, 모듈 또는 장비를 중국에 수출한 적도 없습니다"라고 말했습니다.

관련 보고와 주장에 대해 미국 상무부, ASML, 백악관은 정규 업무 시간 외에 로이터가 연락을 했으나 즉각 응답하지 않았습니다. 앞서 로이터통신은 지난해 12월 중국 과학 연구팀이 전직 ASML 엔지니어 몇 명이 참여해 EUV 프로토타입을 개발했다고 보도한 바 있다. 이는 고급 칩 제조 분야에서 중국의 '맨해튼 프로젝트' 스타일 연구 프로젝트로 설명되었습니다.